产品名称：泰斯特真空/气氛管式炉CVD系统系列
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17669732769
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天津泰斯特，提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域。
产品名称
产品型号
市场价
真空气氛管式炉（低端）
TF12D50
20000
TF12D50S
24000
TF12D60
20800
TF12D60S
24800
TF12D80
23000
TF12D80S
26800
TF12D100
24800
TF12D100S
28800
开启式真空气氛管式炉
TF12P50
24800
TF12T50
28800
TF12P50S
28000
TF12T50S
34000
TF12P60
28000
TF12T60
32000
TF12P60S
31200
TF12T60S
35200
TF12P80
31200
TF12T80
35200
TF12P80S
34400
TF12T80S
38400
TF12P100
34400
TF12T100
38400
TF12P100S
37600
TF12T100S
41600
开启式真空气氛管式炉
TF14P40
29000
TF14T40
34000
TF14P50
32000
TF14T50
36000
TF14P60
43000
TF14T60
48000
TF14P80
46000
TF14T80
52000
TF16P50
49500
TF16T50
52000
TF16P60
52000
TF16T60
55600
TF16P60S
80000
TF16T60S
88000
TF16P80
55600
TF16T80
58000
TF16P80S
84000
TF16T80S
90000
TF16P100
58000
TF16T100
60000
TF16P100S
88000
TF16T100S
96000
中真空控制系统
ZKXT-1D
24800
浮子流量控制系统
FZXT-2D
9800
FZXT-3D
10800
FZXT-4D
12800
质量流量控制系统
ZLXT-2D
50000
ZLXT-3D
63000
ZLXT-4D
76000
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